少妇粉嫩小泬喷水视频|亚洲精品天堂在线观看2020|亚洲欧美精品专区极品|欧美亚洲日韩aⅴ在线观看

<ul id="6km0w"><bdo id="6km0w"></bdo></ul><ul id="6km0w"><samp id="6km0w"></samp></ul>
<blockquote id="6km0w"><dfn id="6km0w"></dfn></blockquote>

  • <td id="6km0w"></td>
  • 宇微光學:突破納米級別核心技術(shù),自主研發(fā)光刻軟件精準成像
    2023-01-20 08:36:00 來源: 長江日報

    “明光生二極,解麥克斯韋,窮究浩宇;看像成三維,算霍普金森,不舍毫微。”在華中科技大學教授劉世元創(chuàng)立的宇微光學軟件有限公司(以下簡稱“宇微光學”),墻上有他自創(chuàng)的“藏尾對聯(lián)”。

    麥克斯韋方程組闡釋了電與磁——這一對宇宙間最深刻的作用力之間的聯(lián)系,并將電場和磁場統(tǒng)一了起來;而霍普金森成像公式,是部分相干成像最高效的計算公式,特別適合于掩模優(yōu)化的光刻成像建模計算。

    致廣大而盡精微——在劉世元看來,既要抬頭望浩瀚宇宙,也要低頭謀一域精益求精,而光刻領(lǐng)域正是承載人類跨域式科技發(fā)展的關(guān)鍵“微?!?。

    黨的二十大報告提出,以國家戰(zhàn)略需求為導向,集聚力量進行原創(chuàng)性引領(lǐng)性科技攻關(guān),堅決打贏關(guān)鍵核心技術(shù)攻堅戰(zhàn)。

    近日,劉世元在接受長江日報《在場》欄目記者專訪時說,無論是把論文寫在祖國大地上,還是通過創(chuàng)業(yè)實現(xiàn)核心技術(shù)產(chǎn)業(yè)化,個人的發(fā)展要緊跟時代命脈,要始終瞄準解決國家迫切需要解決的關(guān)鍵核心技術(shù)。

    宇微光學軟件有限公司創(chuàng)始人劉世元。

    最早一批進入“無人區(qū)”

    光刻機是制造芯片的最核心裝備,制造難度極大,被譽為世界上最精密的工具,而在20多年前,在“缺芯少屏”的擔憂下,國內(nèi)科創(chuàng)產(chǎn)業(yè)有識之士喊出了“砸鍋賣鐵也要研制芯片”的口號。

    在政策的鼓勵下,中國半導體產(chǎn)業(yè)出現(xiàn)了海歸創(chuàng)業(yè)和自主發(fā)展的熱潮,當2002年光刻機被列入國家863重大科技攻關(guān)計劃時,上海微電子裝備有限公司應運而生并承擔了主要的攻堅克難任務。

    彼時,荷蘭阿斯麥爾(ASML)已經(jīng)成立18年了,距離1997年開啟EUV光刻機研發(fā)也已經(jīng)過去了5年。

    一批精兵強將被集結(jié),要縮短距離奮力趕超。

    從英國訪學歸國后不久的劉世元,在學院派遣下,作為最早的幾個技術(shù)骨干之一,加盟上海微電子裝備有限公司,成為“100nm光刻機”研制任務總體組成員、控制學科負責人,并帶出80多人團隊,他們中不少人成長為國內(nèi)首屈一指的光刻機系統(tǒng)專家。

    通過3年多的奮斗,他組建了上海微電子第一個控制工程實驗室,解決了掃描投影光刻機中掩模臺、工件臺、曝光劑量等同步控制的技術(shù)難題。

    這為日后我國600系列光刻機問世、掌握90nm-250nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝等突破,打下了基礎。

    2005年回到母校華中科技大學后,劉世元將IC(集成電路)納米制造的計算光刻與計算測量,作為主攻方向。十多年來,他和團隊在該領(lǐng)域的基礎理論與技術(shù)創(chuàng)新上做了許多工作,相繼獲得國內(nèi)外學術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界同行的重視和認可。

    當湖北省組建跨學科領(lǐng)域協(xié)同創(chuàng)新的綜合性科研平臺光谷實驗室時,已擔任華中科技大學集成電路測量裝備研究中心主任的劉世元,從國家和湖北經(jīng)濟社會發(fā)展的重大戰(zhàn)略需求出發(fā),領(lǐng)銜光谷實驗室集成電路測量檢測技術(shù)創(chuàng)新中心。

    讓國產(chǎn)芯片擁有不失真的“犀利眼”

    劉世元介紹,繼在“計算測量”領(lǐng)域獲批科技部首批國家重大科學儀器專項并創(chuàng)立企業(yè)解決“卡脖子”難題后,2020年,他二次創(chuàng)業(yè),創(chuàng)立宇微光學,開始邁向“計算光刻”領(lǐng)域。

    劉世元介紹,光刻機是IC制造中最為核心的制造裝備,其目的是通過其成像系統(tǒng)將掩模圖形不失真地轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著IC器件關(guān)鍵尺寸達到照明光源半波長以下時,硅片上曝光圖形將產(chǎn)生畸變,從而必須引入光學臨近校正(OPC)技術(shù),以實現(xiàn)掩模圖形的優(yōu)化設計。

    有人曾開玩笑說,納米級別的微加工工藝,就仿佛一架3馬赫速度飛行的戰(zhàn)斗機準確打擊一個0.0025毫米的目標,“瞄準”難度可見一斑。而劉世元團隊自主研發(fā)的全國產(chǎn)OPC技術(shù)及軟件,正是要解決這種“瞄準”能力。

    最難的時候,團隊在100多平方米辦公區(qū)初創(chuàng),并急速招兵買馬,集結(jié)并培育研發(fā)人員。迄今,該團隊博士占比接近四成。

    劉世元介紹,OPC已不再是單純的數(shù)據(jù)處理,而是綜合考慮物理、化學、光學、數(shù)學、高性能計算,以及生產(chǎn)與制造工藝方面的跨學科應用,“僅光學成像設備就涉及電磁波、微納米結(jié)構(gòu)相互作用等物理光學;再如,最終,數(shù)據(jù)量會以T級計,成像上萬個CPU計算機核非??剂克惴ǖ男省薄?/p>

    據(jù)介紹,該軟件主要掌握在少數(shù)海外巨頭手中。不光硬件買不來,軟件同樣討不來。

    作為技術(shù)帶頭人,劉世元確定自主技術(shù)路線、搭建算法軟件平臺,蹚出一條擁有國產(chǎn)自主知識產(chǎn)權(quán)的技術(shù)道路。

    截至目前,宇微光學已成功研發(fā)全國產(chǎn)、自主可控的計算光刻OPC軟件,填補國內(nèi)空白。目前正在做集成與測試,并到芯片生產(chǎn)廠商做驗證,今年還將繼續(xù)升級完善,實現(xiàn)訂單突破。

    近日,這一成果入選2022年中國光學領(lǐng)域十大社會影響力事件,在中國光學領(lǐng)域高“光”時刻中永恒定格。

    (長江日報記者康華蕾 趙玨)

     

    • 為你推薦
    • 公益播報
    • 公益匯
    • 進社區(qū)

    熱點推薦

    即時新聞

    武漢